采用陶瓷金属封装技术,利用氮化铝陶瓷具有耐高温、绝缘性能好、介电常数高又能导热特点。 首先是解决陶瓷金属化问题,采用最先进高真空镀膜技术,把氮化铝金属化;再使用光刻和刻蚀技术,在陶瓷上印刷电路;同时利用金基焊料的温度梯度(280℃、350 ℃、450 ℃)解决复杂结构和多芯片的陶瓷金属封装难题。 SS®陶封技术解决了第三代半导体五大问题:1、热匹配问题;2、绝缘性问题;3、气密性问题;4、封装技术;5、规模化生产技术。
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